镇定!东芝闪存部分晶圆报废勿惊慌!

Release time:2017-10-17
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日前,东芝传出晶圆厂意外紧急停工数周,造成10万片晶圆报废的情况。事件到底如何......

据digitimes今日报道,东芝近期惊传日本晶圆厂紧急停工数周,损失近10万片的NAND Flash产能。中央社则报道称,市场传出东芝近期因转换新制程导致部分晶圆报废,恐将使得第4季储存型闪存(NAND Flash)缺货情况更加严重。

台媒《电脑设备》表示,东芝的合作伙伴群联指出,有关东芝近期因转换新制程导致部分晶圆报废一事,群联早已掌握所有状况,亦已备好充裕库存,足以因应长期合作客户需求,也早已准备好启动紧急备货机制,所以此事对群联的营运将不造成影响。

群联指出,东芝晶圆供应更为吃紧已发生一段时间。东芝是群联的重要奥援,双方合作关系紧密,在市场供不应求的情形下群联一般能获得相对多的货源支持。

事实上,上周业内已有此传闻。

10月13日,CINNO报道称,根据CINNO Research从内存供应链业者所掌握到的最新消息,九月底发生东芝与西数在四日市市的NAND Flash合资厂因晶圆制造流程出现瑕疵以至于出现大批量晶圆报废的现象。

据CINNO估计,受冲击的产线大部分集中在最新的3D-NAND Flash以及少部份的15nm 2D-NAND产能,影响两间公司合计约8-9万片的12吋产能,因此预期10月以及11月的产能供给将出现短缺的现象,12月后的情况将视复工运作的情况以及3D-NAND Flash良率的进展而定。

不过,集邦咨询TrendForce旗下半导体研究中心DRAMeXchange上周在进一步调查后表示,东芝确实在产线上遭遇到一些问题,并致使整体产出的可用良率下降,但影响程度并不如外界所传严重,工厂产线亦未停摆。

今日,国际电子商情记者询问中国闪存市场网相关人士,他表示从获得的信息来看这个事件对市场没有大的影响。

据了解,东芝一间工厂的月产能约为10万片,如若真的损失近10万片晶圆,相当于损失的是其一间工厂一个月的产能。

目前东芝对此事没有做出任何表态。

对于停工的具体原因,目前尚未有确切说法,根据多家媒体报道,更多的说法倾向于晶圆制造流程出现问题。

此前就有媒体报道,2017年在非三星阵营3D-NAND制程转换不顺的影响下,3D-NAND产出占NANDFlash整体产业比重约50%。

从NANDFlash的供给面来看,因为NAND制程从2D转进3D不如预期,导致2017年非三星阵营的新增产能没有百分之百完善利用,再加上转换期间所带来的产能损失,让2017年市场呈现整体供不应求的状态。

从各厂制程进度来看,三星64层3D NAND自今年第三季已经开始进入量产阶段且今年第四季3D产能比重将突破50%,明年将提升到60-70%水平。

SK海力士今年第四季3D NAND产能占比约为总产能的20-30%水平,以48层3D NAND为主,但明年将会专注于扩充72层3D-NAND产能,3D NAND产能比重在2018年第四季也会来到40-50%。

东芝/西数阵营今年上半年主流制程为48层3D NAND,预期今年第四季3D-NAND的占比将会占东芝/西数阵营整体产能约30%水平,2018年第四季目标突破50%。

据供应链透露,近期NAND Flash市场其实原本已有供货稍微纾解的现象,如今再传出原厂生产变量,外界担忧市场供需将再度趋紧,第4季可能又是缺货的情况,价格涨势难以和缓。

据中国闪存市场ChinaFlashMarket报价,NAND Flash每GB的价格从2016年的0.12美金一路上涨至0.3美金,主流的eMMC价格上涨60%以上。目前,3D NAND产能虽然在逐渐增加,但仍不能完全解决缺货问题,预计部分市场供货紧张将持续到年底。

CINNO Research副总经理杨文得此前认为,虽然第四季各项NAND Flash相关合约价格多在此一突发事件前谈妥,对于短线各大智能型手机OEM的价格波动影响不大,然而最大的隐忧在于日前苹果调升了对于iPhone8 Plus的需求,再加上iPhone X需求蓄势待发,购机需求将从今年第四季延伸至明年第一季。在苹果迫切巩固货源的强势手段下,供货商势必得以满足苹果供应为优先指导方针,因此供货排挤的效应势预计也将从11月开始发酵,对于目前供货吃紧的渠道市场将更为严峻。

在综合考虑3D NAND Flash良率提升速度以及此一突发事件的影响,CINNO认为从今年初以来供不应求的NAND Flash市况有很大的机率将延伸至明年第一季。

2018年3D NAND产出占比将突破70%大关

2013年三星发售全球首款3D NAND设备,在IC(集成电路)业界达到了一个里程碑。

3D NAND技术与现有的2D NAND(纳米制程技术)截然不同,2D NAND是平面化的结构,而3D V-NAND是立体结构。3D NAND的立体结构是使用3D存储单元阵列来提高现有工艺制程下的单元密度和数据容量,以垂直半导体通道的方式排列,多层环绕式栅极(GAA)结构形成多电栅级存储器单元晶体管,可以有效降低堆栈间的干扰,使用3D NAND技术应用将不仅使产品性能至少提升20%,而且功耗可以降低40%以上。

此外,3D NAND的好处自然就是能够比现在的闪存提供功能大的存储空间,存储密度可以达到现有闪存的三倍以上,3D技术若采用32层堆叠NAND Flash Die容量达128Gb,与主流2D 1y/1znm 128Gb相比缺乏成本竞争力。采用48层堆叠则可将NAND Flash Die容量提升至256Gb,突破2D NAND 128Gb容量,且较32层3D NAND更有成本和性能优势,这也是驱使Flash原厂在2016年扩大48层量产或加快导入步伐的主要原因,使得2D技术向3D 技术切换点恰好拥有最佳的成本效益,同时结合这样的技术应用在未来甚至可以做出10TB以上的2.5寸SSD固态硬盘。

另外还有一个重要特性,就是每单位容量成本将会比现有技术更低,而且因为无需再通过升级制程工艺、缩小cell单元以增加容量密度,可靠性和性能会更好,因为3D NAND是不再追求缩小Cell单元,而是通过3D堆叠技术封装更多Cell单元,并且还可以使用技术已经相当成熟的旧有工艺来生产3D NAND芯片,而使用旧工艺的好处正是P/E擦写次数大幅提升,而且电荷干扰的情况也因为使用旧工艺而大幅减少。

三星电子是最早宣布采用垂直堆叠3D V-NAND制程的制造商。2013年8月,三星宣布以现有厂房量产3D V-NAND,制程35nm,可以堆叠24层,容量可达128Gb V-NAND,到2015年24nm 3D 36层容量将达到1Tb。2016年开始将3D NAND应用延伸到嵌入式产品UFS 2.0中。

美光、SK海力士等也均宣布将在2016年推出基于3D NAND的SSD,英特尔更是研发先进的3D Xpoint技术,在2016年推出搭载3D Xpoint NAND的Optane系列SSD新品。

东芝在2016年春季开始量产48层3D NAND,紧接着7月15日在它的三重县四日市的半导体二厂中举行启动仪式,今年2月,东芝宣布推出新一代基于64层3D NAND技术的basicBiCS FLASH 3D闪存。

东芝在3D NAND闪存方面的决心很大,计划2017年它的3D NAND占它的NAND出货量的50%,至2018财年增加到占80%。

2018年随着SK海力士、东芝/西数、美光/英特尔阵营的3D-NAND比重都将提升的情况下,2018年3D-NAND的产出占比将突破70%大关。

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东芝推出应用于工业设备的具备增强安全功能的SiC MOSFET栅极驱动光电耦合器
  东芝电子元件及存储装置株式会社(“东芝”)宣布,最新推出一款可用于驱动碳化硅(SiC)MOSFET的栅极驱动光电耦合器——“TLP5814H”,具备+6.8 A/–4.8 A的输出电流,采用小型SO8L封装并提供有源米勒钳位功能。  在逆变器等串联使用MOSFET或IGBT的电路中,当下桥臂[2]关闭时,米勒电流[1]可能会产生栅极电压,进而导致上桥臂和下桥臂[3]出现短路等故障。常见的保护措施有,在栅极关闭时,对栅极施加负电压。  对于部分SiC MOSFET而言,具有比硅(Si)MOSFET更高的电压、更低的导通电阻以及更快的开关特性,但栅极和源极之间可能无法施加足够的负电压。在这种情况下,有源米勒钳位电路的应用使米勒电流从栅极流向地,无需施加负电压即可防止短路。然而由于部分削减成本的设计,导致其在IGBT关断时减少用于栅极的负电压。而且在这种情况下,内建有源米勒钳位的栅极驱动器是可以考虑的选项。  TLP5814H内建有源米勒钳位电路,因此无需为负电压和外部有源米勒钳位电路提供额外的电源。这不仅为系统提供安全功能,而且还可通过减少外部电路来助力实现系统的最小化。有源米勒钳位电路的导通电阻典型值为0.69 Ω,峰值钳位灌电流额定值为6.8 A,因此非常适合作为SiC MOSFET的栅极驱动器,SiC MOSFET对栅极电压变化非常敏感。  TLP5814H通过增强输入端红外发射二极管的光输出并优化光电检测器件(光电二极管阵列)的设计实现了–40 °C至125 °C的额定工作温度,从而可提高光耦合效率。因此,面对严格热管理的工业设备,比如光伏(PV)逆变器和不间断电源(UPS)等是十分适合的。此外,其传输延迟时间和传输延迟偏差也规定在工作温度额定值范围内。其5.85 mm×10 mm×2.1 mm(典型值)的小型SO8L封装有助于提高系统电路板的部件布局灵活性。此外,它还支持8.0 mm的最小爬电距离,进而可将其用于需要高绝缘性能的应用。  未来东芝将继续开发光电耦合器产品,助力增强工业设备的安全功能。  应用  工业设备  ● 光伏逆变器、UPS、工业逆变器以及AC伺服驱动等    ● 内建有源米勒钳位功能  ● 额定峰值输出电流:IOP=+6.8 A/–4.8 A  ● 高工作温度额定值:Topr(最大值)=125 °C  主要规格  (除非另有说明,否则Ta=-40°C至125°C)  注:  [1] 米勒电流:当高dv/dt电压应用于MOSFET的漏极和栅极之间的电容或IGBT的集电极和栅极之间的电容时,产生的电流。  [2] 下桥臂是从使用电源器件的电路的负载中吸收电流的部件,例如串联至电源负极(或接地)的逆变器,而上桥臂则是从电源为负载提供电流的部件。  [3] 上桥臂和下桥臂短路:由于噪声引起的故障或开关过程中米勒电流引起的故障,上下电源器件同时接通的现象。
2025-03-14 10:55 reading:387
东芝功率半导体后道生产新厂房竣工
  日本川崎——东芝电子元件及存储装置株式会社(东芝)近日在其位于日本西部兵库县姬路半导体工厂的车载功率半导体后道生产新厂房举办了竣工庆祝仪式。新厂房的产能将比2022财年的水平增加一倍以上,并将于2025财年上半年开始全面生产。  新厂房旨在通过采用RFID[1]标签提高工作效率,并提高库存管理的准确性来推动智能工厂计划。该设施将100%由可再生能源供电,包括根据购电协议在建筑物屋顶上安装太阳能电池板等。  功率器件是提高各种电气和电子设备能源效率的重要元件,在电力供应和能耗控制方面发挥着至关重要的作用。汽车的持续电气化和工业设备对更高效率的要求预计将推动市场对功率半导体的长期需求。东芝将通过对前道和后道生产设施的投资来应对这一挑战,并将通过稳定供应高效、高可靠性产品来满足市场增长。  新生产设施将使姬路工厂的车载功率半导体生产能力较2022财年增加一倍以上,为推进碳中和作贡献。         新生产厂房概况  建筑面积:4,760.31 m2  总建筑面积:9,388.65 m2  结构:钢架结构,地上2层  竣工时间:2025年3月  用途:功率半导体制造(后道工艺)  姬路工厂 - 半导体工厂概况  地点:日本兵库县揖保郡太子町鵤-300  占地面积:246,800.08 m2  总经理:Kyozo Takeo  员工:约1,400人(截至2025年1月)  主要产品:分立半导体(功率器件、小信号器件)  [1]射频识别(RFID)是指利用小型IC芯片和天线记录信息的自动识别技术。
2025-03-14 09:31 reading:314
东芝推出面向车载直流有刷电机的栅极驱动IC,助力缩小设备尺寸
  东芝电子元件及存储装置株式会社(“东芝”)今日宣布,量产面向车载直流有刷电机应用的栅极驱动IC[1]——“TB9103FTG”,其典型应用包括用于电动后门和电动滑门的闩锁电机[2]和锁定电机[3],以及电动车窗和电动座椅的驱动电机等。  汽车部件现已基本实现电气化,电机的需求以及在汽车中集成的电机数量都在增加。随着电动机中使用的驱动IC数量的增加,人们更倾向采用高集成度和小型化的系统解决方案。此外,有些电机应用不需要控制转速,只需具有简单功能和性能的驱动IC。  TB9103FTG可为无需控制速度的直流有刷电机提供优化的栅极驱动IC功能和性能,为实现更紧凑设计开辟了道路。它具有内置的电荷泵电路[4],可确保为驱动电机外部MOSFET供电所需的电压。此外,它还具有栅极监控功能,可通过为高低侧外部MOSFET自动控制栅极信号输出时序,防止生成直通电流。与此同时,该IC还内置睡眠功能,可在待机时降低功耗。  这款全新IC既可用作单通道H桥,也可用作双通道半桥。除了作为电机驱动IC外,它还能与外部MOSFET结合,替代机械式继电器以及其它机械开关,有助于实现更安静的运行以及更高的设备可靠性。  TB9103FTG采用4.0 mm×4.0 mm(典型值)VQFN24封装,有助于缩小设备尺寸。  东芝网站上现已发布“使用TB9103FTG的车载直流有刷电机控制电路”的参考设计。  未来东芝将继续扩大其车载电机驱动IC的产品线,为车载设备的电气化和安全性提高做出贡献。  应用:  车载设备  用于电动后门及电动滑门使用的闩锁电机和锁定电机的驱动器;用于车窗和电动座椅等的电机的驱动器  特性:  精简的功能和性能有助于小型化  小型封装  低待机功耗(内置睡眠功能)  可用作单通道H桥或双通道半桥的栅极驱动IC  符合AEC-Q100(Grade 1)标准  主要规格:  注:  [1] 栅极驱动IC:驱动MOSFET的驱动IC。  [2] 闩锁电机:系统中用于保持车门关闭的电机。  [3] 锁定电机:系统中与钥匙配合工作,为车门上锁和开锁,以防出现犯罪行为而使用的电机。  [4] 电荷泵电路:使用电容器和开关升压的电路。
2025-03-14 09:11 reading:270
东芝12寸晶圆工厂竣工!
  5月26日消息,东芝电子元件及存储装置株式会社(东芝)近日在其位于日本石川县的主要分立半导体生产基地—加贺东芝电子株式会社(Kaga Toshiba Electronics Corporation)举行仪式,庆祝新的300mm功率半导体晶圆制造工厂和办公楼竣工。  建设的完成是东芝多年投资计划第一阶段的一个重要里程碑。东芝目前将进行设备安装,争取在2024财年下半年开始量产。  一旦一期工程全面投产,东芝功率半导体(主要是MOSFET和IGBT)的产能将是2021财年制定投资计划时的2.5倍。关于二期建设和开始运营的决定将反映市场趋势。  新的制造大楼遵循东芝的业务连续性计划(BCP),并将为东芝的业务连续性计划(BCP)做出重大贡献:它具有吸收地震冲击的隔震结构和冗余电源。  来自可再生能源和建筑物屋顶太阳能电池板的能源(现场PPA模式)将使该设施能够通过可再生能源满足100%的电力需求。  人工智能(AI)的使用将提高产品质量和生产效率。东芝还将获得日本经济产业省的拨款,以补贴其部分制造设备的投资。  功率半导体在电力供应和控制中发挥着至关重要的作用,是电气设备提高能源效率的重要器件。随着汽车的持续电气化和工业机械的自动化,需求将持续强劲增长。  东芝于2022财年下半年在加贺东芝电子现有工厂开始在一条新的300毫米晶圆生产线上开始功率半导体生产。展望未来,该公司将通过新工厂扩大产能,进一步为碳中和做出贡献。
2024-05-27 15:22 reading:845
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