ROHM罗姆首次推出硅电容器BTD1RVFL系列-Ameya360电子元器件采购网

ROHM罗姆首次推出硅电容器BTD1RVFL系列

发布时间：2023-09-14 15:21

作者：AMEYA360

来源：罗姆

阅读量：3577

　　全球知名半导体制造商ROHM(总部位于日本京都市)新开发出在智能手机和可穿戴设备等领域应用日益广泛的硅电容器。利用ROHM多年来积累的硅半导体加工技术，新产品同时实现了更小的尺寸和更高的性能。

ROHM罗姆首次推出硅电容器BTD1RVFL系列

　　随着智能手机等应用的功能增加和性能提升，业界对于支持更高安装密度的小型元器件的需求日益高涨。硅电容器采用薄膜半导体技术，与多层陶瓷电容器(MLCC)相比，具有厚度更薄且电容量更大的特点。由于其稳定的温度特性和出色的可靠性，这种产品的应用越来越广泛。ROHM预测硅电容器的市场规模将在2030年增长至3000亿日元※，约达到2022年规模的1.5倍，因此采用自有的半导体工艺开发出小型且高性能的硅电容器。

　　ROHM的硅电容器采用能以1μm为单位进行加工的自有微细化技术RASMID™* 1，消除了外观成型过程中的缺陷，并实现了±10μm以内的高精度尺寸公差。由于产品尺寸波动很小，因此能够支持更窄的安装间距;另外通过将连接电路板的背面电极扩大至封装的边缘部位，还提高了安装强度。

　　第一波产品“BTD1RVFL系列”的尺寸仅为0402(0.4mm×0.2mm)，是业界超小尺寸的表面贴装型量产硅电容器。与0603尺寸的普通产品相比，其安装面积减小约55%，仅为0.08mm2，非常有助于应用产品的小型化。另外，新产品还内置TVS保护器件，可确保出色的ESD* 2耐受能力，减少浪涌对策等电路设计工时。

　　“BTD1RVFL 系列 ” 包括电容量为 1000pF 的 “BTD1RVFL102” 和电容量为 470pF 的 “BTD1RVFL471”，已从2023年8月开始以月产50万个的规模投入量产(样品价格：800日元/个，不含税)。前道工序的生产基地为ROHM Co., Ltd.(日本滋贺工厂)，后道工序的生产基地为ROHM Apollo Co., Ltd.(日本福冈县)。

　　ROHM计划于2024年面向高速和大容量通信设备等领域开发高频特性优异的第二波系列产品。另外， ROHM还将致力于开发适用于服务器等工业设备领域的产品，以进一步扩大应用范围。

ROHM罗姆首次推出硅电容器BTD1RVFL系列

　　<产品阵容>

ROHM罗姆首次推出硅电容器BTD1RVFL系列

　　<应用示例>

・智能手机、可穿戴设备、小型物联网设备、光纤收发器等

　　<术语解说>

　　*1) RASMID™ ROHM Advanced Smart Micro Device的简称。利用与传统方法完全不同的ROHM自有新工艺方法，实现了小型化和惊人的尺寸精度(±10μm以内)的超小型产品系列。

　　・RASMID™是ROHM Co., Ltd.的商标或注册商标。

　　*2) ESD(Electro-Static Discharge：静电放电)当人体与电子设备等带电物体接触时，会产生静电(浪涌)。这种静电(浪涌)会导致电路和设备发生误动作或损坏。

（备注：文章来源于网络，信息仅供参考，不代表本网站观点，如有侵权请联系删除！）

行业新闻

ROHM丨晶体管详解：结构、分类及工作原理基础

　　晶体管是一种用于控制电流、放大信号并进行开关(ON/OFF)切换的半导体器件。该器件兼具放大和开关双重功能，在模拟与数字电路设计中均发挥着核心作用。在音响设备中，它会放大微小的音频信号;而在智能手机的处理器中，则根据迭代和用途搭载数千万至数百亿个晶体管，支撑起高速逻辑处理。本文将介绍晶体管的工作原理、主要种类及其在具体电路中的使用方法。　　晶体管的基本原理和作用　　要理解晶体管的工作原理，可将器件本身的功能与其在电路中的作用分开来分析，这样更易于梳理清楚。　　放大和开关原理　　晶体管是一种利用半导体的性质，将微小的输入信号转换为较大输出信号的电子器件。在硅或锗等半导体材料中掺入杂质，可形成能够控制电流流通难易度的区域。微小的电压和电流变化，会作为显著的电流变化被输出。通过电路设计，晶体管可以发挥放大器或开关的作用。　　在放大工作中，施加于输入端的小信号将在输出端被放大数倍至数百倍。在音频放大器中，当将麦克风的微小语音信号放大至扬声器驱动级别时，晶体管会从电源中提取能量并叠加至输出端。输入信号的波形会被忠实保留，仅振幅被放大，因而能够无损地传递信息。　　在开关工作中，可高速切换电流导通状态(ON)和关断状态(OFF)。在数字电路中，这两种状态对应逻辑0和1，从而实现运算处理和存储功能。CPU中搭载的数十亿个晶体管，以纳秒为单位不断进行开关(ON/OFF)切换，支撑着复杂的信息处理过程。　　通过改变工作区域可实现放大与开关的区分使用。在放大工作中，为了获得与输入信号成比例的输出，需使其在放大区工作。开关功能需要完全导通和关断，因此在饱和区和截止区工作。虽为同一器件，晶体管却能通过电路设计实现不同的功能，这种特性大大提高了其通用性。　　在电子电路中发挥的作用　　在模拟电路中，将来自传感器的微小信号放大至可处理级别的信号。在将温度传感器输出的毫伏级(数mV)电压变化，放大至微控制器可读取的伏特级(数V)时，包括晶体管在内的放大电路需要在保持信号精度的前提下执行电平转换。结合滤波电路，可在消除噪声的同时提取目标频率成分。　　在数字电路中，它作为逻辑门的基本构成要素发挥作用。AND、OR、NOT等基本逻辑运算，是通过组合多个晶体管来实现的。通过将这些逻辑门进行多级连接，便可构成加法器、比较器、存储器单元等复杂功能模块。在微控制器和FPGA内部，无数晶体管与时钟信号同步工作，按照程序指令执行相应的处理。　　在电源回路中，承担着调节电压和电流的重要功用。在开关电源中，晶体管通过反复进行高频开关动作，将输入电压转换为目标输出电压。在线性电源中，发挥类似可变电阻的作用，能根据负载情况维持输出电压恒定。在LED驱动器和电机驱动器中，用来控制电流，为负载提供适当的电力。　　在接口电路中，用来在不同电压等级的电路之间进行信号中继。当3.3V微控制器需与5V传感器连接时，可利用由晶体管构成的电平转换电路进行电压转换。借助晶体管，可实现不同代别和规格的元器件相结合的电路设计。　　晶体管的基本结构和工作原理　　晶体管具有三个引脚，各自通过电流控制发挥不同作用。只要明白引脚间PN结的工作原理，就自然能理解放大和开关的机制了。　　三个引脚(发射极、基极、集电极)的作用　　双极晶体管由发射极、基极和集电极这三个引脚构成。发射极是提供(注入)载流子的引脚，集电极是收集载流子的引脚，而基极则是控制其流动的引脚。在NPN型晶体管中，当给基极施加正向电压时，基极电流便会流动，从而引发集电极电流。集电极电流可达基极电流的数十至数百倍，该比率称为“电流放大系数”。在PNP型晶体管中，载流子的类型相反，但其控制原理相同。　　当基极-发射极间电压超过一定值(硅晶体管约为0.6～0.7V)时，载流子便开始从发射极向基极注入。注入的大部分载流子会通过基区到达集电极，其余则作为基极电流流入外部电路。基区越薄，就有越多的载流子能够到达集电极，从而获得更高的电流放大系数。　　集电极与发射极之间连接电源电压，形成集电极电流的流通路径。当该电压足够高时，可实现在基极电流变化时集电极电流与其成比例变化的放大区工作状态。集电极-发射极间电压过低会进入饱和状态，此时即使增加基极电流，集电极电流也不会再增加。在开关动作中，通过饱和区实现导通状态，通过截止区实现关断状态。　　PN结基础：正向偏置和反向偏置原理　　PN结是由P型半导体和N型半导体结合而成的结构。P型区域富含空穴，而N型区域则富含电子。在交界面处，电子与空穴相互扩散并复合，从而形成不存在载流子的耗尽层。耗尽层起到控制电流流动的势垒的作用。　　正向偏置时，在P型侧施加正电压，在N型侧施加负电压。耗尽层宽度变窄，载流子更容易跨越结区移动。空穴从P型区扩散至N型区，电子从N型区扩散至P型区，从而形成电流流动。当电压超过某一特定值(硅晶体管约为0.6～0.7V)时，电流便会急剧上升。　　在反向偏置时，在P型侧施加负电压，在N型侧施加正电压。耗尽层宽度增加，载流子的迁移受阻。多数载流子不参与导电，仅能观测到少数载流子形成的微小漏电流。若反向电压过高，将引发雪崩击穿现象，若不限制电流，会导致器件损坏。　　晶体管通过将基极-发射极结正向偏置以注入载流子，将基极-集电极结反向偏置以收集载流子。将这两种结组合起来，便实现了基极电流控制集电极电流的机制。　　晶体管的主要类型及特点　　晶体管主要分为通过电流控制的双极晶体管和通过电压控制的场效应晶体管两大类。在电路设计中，选用不同种类的晶体管会影响到电路的效率和性能，因此结合实际应用需求进行选择至关重要。　　双极晶体管(BJT)的基本工作原理和特点(NPN型与PNP型)　　双极晶体管是一种电子和空穴两种载流子共同参与电流形成的器件。其分为NPN型和PNP型两种，这两种的半导体层的排列顺序不同。NPN型以N型-P型-N型的顺序排列，PNP型则以P型-N型-P型的顺序排列。多数电路会采用NPN型晶体管。这是因为其电子迁移率高于空穴，有利于实现高速工作。　　在NPN型晶体管中，当给基极施加正电压时，电子将从发射极流向集电极。将电源正极连接至集电极侧，负极接发射极侧，通过向基极施加微小正向电流来控制集电极电流。在普通的小信号晶体管中，基极电流通常在数μA至mA范围内，而集电极电流则可控制在数mA到数百mA的范围。　　PNP型晶体管中载流子与电压的极性相反。当给基极施加负电压时，空穴将从发射极流向集电极。将NPN型和PNP型晶体管相结合，可构建推挽电路和互补电路，从而实现高效率的功率放大和双向开关功能。　　有效输入阻抗会因设计不同而发生显著变化。作为参考标准，输入阻抗应在数kΩ至数十kΩ范围内，且需提供基极电流。电流放大系数会因温度和工作点而波动，因此在电路设计中需采用负反馈或偏置电路来提高运行稳定性。这种晶体管具有高增益、噪声特性优异的特点，因此被广泛应用于微小信号放大和模拟电路中。　　场效应晶体管(FET)的工作原理和特点(MOSFET与JFET)　　场效应晶体管是一种通过电压控制电流的器件。这种器件具有栅极、源极和漏极三个引脚，通过栅极电压可控制源极-漏极间的电流。由于栅极电流几乎不流动，因此输入阻抗较高，驱动电路的负担较小。栅极电压产生的电场会改变沟道的导电性。　　MOSFET具有金属-氧化物-半导体结构。栅极电极与半导体之间设有氧化膜，通过栅极电压在半导体表面形成沟道。MOSFET可分为N沟道与P沟道两种。N沟道MOSFET是给栅极施加正电压时导通;而P沟道MOSFET则是施加负电压时导通。在数字电路中，广泛采用N沟道与P沟道相结合的CMOS结构，通过互补工作方式实现低功耗设计——静态时以漏电流为主，动态时则以开关损耗为主导。(工作时以动态损耗为主，静态时则以漏电流为主导)　　JFET是一种利用PN结的耗尽层来控制沟道宽度的晶体管对栅极施加反向偏压时，耗尽层会扩展，从而使源极-漏极之间的电流受限。与MOSFET相比，其结构更简单，且具备优异的噪声特性，因此被广泛用于高频电路和模拟前端应用中。JFET基本上作为耗尽型器件工作，在栅极电压为零时即有电流通过。　　由于几乎无栅极电流流过，因此传感器电路和缓冲电路可在不增加信号源负担的情况下工作。MOSFET凭借高速开关和低导通电阻特性，被广泛应用于电源电路和电机驱动器领域;而JFET则因其低噪声特性，被用于音频电路和测量电路中。　　不同用途的选型要点　　晶体管选型时，首要工作是梳理电路设计目标和性能要求。在放大电路中，信号带宽、增益和噪声特性是选型标准;而在开关电路中，导通电阻、开关速度和耐压则成为关键考量因素。在电源电路中，容许损耗、热阻以及封装形状是决定设计的重要因素。　　双极晶体管因其在中低频放大电路和需要电流驱动的电路中的出色表现而备受青睐。由于电流放大系数高，能够通过较小基极电流控制较大的集电极电流，因此非常适用于传感器信号的前级放大和模拟运算电路。　　MOSFET适用于需要高速开关和大电流控制的应用。Vth仅作为“导通开始的参考基准”使用。是否可以驱动需根据RDS(on)在规定的VGS(例如4.5V/10V)条件下的表现，并结合所需电流的损耗估算来判定。在开关电源中，采用低导通电阻的MOSFET可降低导通损耗，提高效率。　　选型时需确认技术规格书中的最大额定值和推荐工作条件。集电极损耗和漏极损耗需从实际工作条件下产生的功率损耗和散热设计两方面综合评估。在环境温度较高的情况下，需进行降额处理。　　通过简易电路了解晶体管的工作原理　　仅凭理论难以理解的晶体管工作原理，通过实际电路可加深理解。下面以开关电路和放大电路为例，来探讨引脚间电压与电流的关系。　　基本开关电路(NPN型)　　NPN晶体管组成的开关电路是使用微控制器控制LED、继电器等负载时的基本配置。在电源电压与集电极之间接入负载，并将发射极接地。通过微控制器的输出端口经基极电阻向基极输入信号，即可控制流向负载的电流的通断。　　基极电阻的阻值应设置为能够确保流过使晶体管切实饱和所需的基极电流的大小。在饱和状态下，集电极-发射极间的电压降会降至数十mV至数百mV左右，从而使晶体管损耗达到最小。　　当负载含有电感分量时，使晶体管关断的瞬间会产生反向电动势。当该电压超过晶体管的耐压极限时，将导致器件损毁，故需在负载两端并联续流二极管。将二极管的阴极连接至电源侧，阳极连接至集电极侧，由二极管吸收反向电动势产生的电流，从而实现对晶体管的保护。　　在该电路结构中，当微控制器输出高电平时，晶体管导通，电流流经负载。输出低电平时，晶体管关断，切断流向负载的电流。虽然结构简单，却可以通过简单的电路来理解通过数字信号控制功率的基本工作原理。　　基本开关电路(N沟道MOSFET)　　N沟道MOSFET构成的开关电路，适用于需要大电流负载控制和高速开关的用途。在电源电压和漏极之间连接负载，并将源极接地。通过微控制器的输出端口向栅极输入信号，来控制流向负载的电流的通断。　　MOSFET通过栅极-源极间电压进行控制，几乎不流过栅极电流。因此，微控制器有时可直接驱动栅极。　　当栅极处于悬空状态时，可能会因静电或周围电场的影响而意外导通。为防止这种情况，可在栅极与源极之间连接下拉电阻，确保微控制器无信号输出时栅极电压保持为零。　　控制电感负载时，与NPN晶体管同样需要配置续流二极管。通过在负载两端并联连接二极管，可使其吸收反向电动势产生的电流。在需要高频开关和高速响应的应用中，选用反向恢复特性优异的肖特基二极管可抑制瞬态损耗，从而降低开关器件的应力。　　基本放大电路(共发射极电路)　　共发射极电路是一种采用了双极晶体管的基础型放大电路。该电路以发射极为基准点，给基极施加输入信号，从集电极提取放大后的信号。在电源电压和集电极之间连接集电极电阻，在发射极和接地之间连接发射极电阻，并在基极设置由分压电阻构成的偏置电路。　　偏置电路的作用是在无输入信号状态下，将晶体管设定至合适的工作点。将工作点设定在电源电压的中点附近，可使输入信号在正负双向都能获得最大不失真可放大范围。偏置电路的具体设计，将在后续文章中详细介绍。　　发射极电阻可吸收由温度变化和个体差异导致的晶体管特性波动，从而使工作稳定。当发射极电流增加时，发射极电阻上的电压降增大，基极-发射极间的电压相对降低。通过这种负反馈作用，集电极电流会自动得到调节。当输入信号引起基极电流变化时，集电极电流会相应改变，由于集电极电阻上的压降会随之变化，因此输出与输入相位相反。这正是共发射极相位反转和高电压增益的要点。　　晶体管电路设计中应最先掌握的参数　　在实际设计电路时，需要正确解读技术规格书的特性值并估算工作条件。掌握了输入输出特性和热设计基础，即可实现稳定工作。　　输入特性基础(基极-发射极电压、阈值电压、输入阻抗)　　双极晶体管的基极-发射极间电压，是晶体管开始导通的电压。硅晶体管的导通电压约为0.6～0.7V，超过该电压时基极电流开始流动。温度上升时，该电压会以约2mV/℃的比例下降。−2mV/℃是基于“保持电流恒定时”的经验法则，在实际设计中同时考虑温度依赖性和电流依赖性更为稳妥。在设计偏置电路时，需充分考虑其温度特性来设定工作点。　　输入阻抗是指从信号源端看到的晶体管输入端的电阻分量。小信号输入电阻随工作点变化，且外置偏置电阻是并联的，因此实际输入阻抗可根据设计在较大范围内变化。作为参考标准，双极晶体管因存在基极电流，其输入阻抗通常在数kΩ至数十kΩ范围。当信号源的输出阻抗较高时，基极电流会导致信号电压下降，这可能会使放大系数偏离设计值。　　MOSFET的输入阻抗，由于栅极氧化膜起到绝缘体的作用，因此在直流情况下实际上为无限大。然而，栅极-源极间存在电容，在高频信号或高速开关情况下，这种电容会进行充放电，从而导致阻抗降低。在高速驱动栅极容量较大的MOSFET时，需要降低驱动电路的输出阻抗。　　输出特性基础(集电极电流、输出电压、电压降)　　集电极电流是晶体管控制的主电流。技术规格书中记载了连续工作状态下可承载的最大集电极电流。在实际电路中，通常以最大额定值的50%～80%作为设计上限，以预留应对温升和年久劣化的安全裕度。脉冲工作模式下可瞬时通过较大电流，但需确保平均功率不超过容许损耗。　　作为开关导通时，集电极-发射极间的饱和电压是需要考虑的问题。从晶体管处于饱和状态时的电压降来看，饱和状态电压可降至数十mV至数百mV范围。通过在该状态下进行开关工作，能够将晶体管中的损耗降至最低。在放大区(Active Region)工作时，集电极-发射极间电压可从数伏变化至接近电源电压，在该范围内均可进行放大工作。　　MOSFET的导通电阻是指漏极-源极处于导通状态时的电阻值。电阻值范围为数mΩ至数百mΩ，该值越小，导通损耗越低。导通电阻会随温度升高而增加，因此在连续工作状态下需以温升后的阻值来计算损耗。在大电流电路中，导通电阻导致的功率损耗是发热的主要原因。　　输出电压范围由负载电阻和晶体管的工作状态决定。集电极电阻越大，电压变化越显著，但会限制集电极电流。在开关电路中，需确保导通状态下电压降较小，关断状态下电压能上升至电源电压。在放大电路中，需通过调整工作点和集电极电阻，确保输出信号不会因输入信号幅度而进入饱和区和截止区。　　功耗和热设计基础(发热与温度管理)　　晶体管的功耗可通过引脚间电压与电流的乘积计算得出。对于双极晶体管而言，集电极-发射极间电压与集电极电流的乘积即为集电极损耗。在MOSFET中，导通状态下会产生与漏极电流平方与导通电阻的乘积相对应的损耗;而在开关过程中则叠加了电压与电流同时存在期间产生的损耗。在高速开关时，开关损耗可能会成为主要损耗。　　容许损耗是为了确保晶体管结温不超过最大额定值而设定的。技术规格书中列出了以壳体温度或环境温度为基准的容许损耗值。当环境温度升高时，容许损耗呈线性减少趋势。　　在散热设计中，需考虑到晶体管的封装形式和安装方式。TO-220和TO-247等大型封装可安装散热器，适用于大功率工作。在表面贴装型封装中，利用电路板的散热过孔和铜箔图案作为散热路径。在连续工作的电路中，通过计算最恶劣条件下的温升，将结温控制在额定值80%左右的设计方式，可有效确保可靠性。　　晶体管的主要用途及具体示例　　晶体管已被广泛应用于数字电路、模拟电路和电力电子等领域，各领域对其功能要求各不相同。了解其在不同应用场景下的使用区分，可使设计阶段的元器件选型更顺利。　　在数字电路中的应用(开关、逻辑门)　　在数字电路中，晶体管通过高速切换开和关两种状态来实现逻辑运算与信息处理。在CMOS逻辑电路中，通过采用N沟道MOSFET与P沟道MOSFET配对使用、使其中一方导通时另一方关断的结构来构建逻辑门。CMOS以反相器为基本单元，通过晶体管的串联/并联连接来构建NAND、NOR、XOR等逻辑门电路。在微控制器和FPGA内部，根据产品代别和用途，集成了数百万至数百亿规模的晶体管，能够并行执行复杂的逻辑运算。　　在模拟电路中的应用(微小信号放大)　　在传感器电路中，晶体管负责将微小信号放大并传输至后级电路。温度传感器和应变片输出的数mV至数十mV的信号，将被放大至微控制器的AD转换器可读取的电压范围。在音频放大器中，前置放大器级通常进行数十至数百倍(某些用途和多级结构可达千倍级)的电压放大，而功率放大器级则负责电流放大，为扬声器提供适合的电力。差分放大电路通过将2个晶体管配对使用，在抵消温度变化和电源电压波动影响的同时，检测并放大微小的电压差。　　在电力电子领域中的应用　　在开关电源中，通过晶体管高频开关动作实现电压转换。利用MOSFET的低导通电阻和高速开关特性，通过合理的设计可实现高达90%以上的效率。在电机驱动器中，通过PWM信号控制晶体管的开/关，通过调整平均电流来控制速度。在LED驱动电路中，通过由晶体管和检测电阻组成的恒流电路，实现稳定的发光效果。在逆变电路中，可将直流电转换为交流电，已被广泛应用于光伏发电和不间断电源装置中。功率晶体管在处理高压大电流时，能够在确保电流容量和耐压能力的同时实现高效开关。　　总结：晶体管基础及进阶方向　　本文梳理了晶体管的基本工作原理、种类及功能。双极晶体管属于电流控制器件，而MOSFET则是电压控制器件。通过理解这一基本原理，并掌握根据应用场景进行选型与电路设计的思路，就能在实际的设计实践中做出合理的判断。关于各种晶体管的具体工作特性、实际电路设计及评估方法，通过深入学习双极晶体管(BJT)基础与设计、MOSFET基础与开关电路设计、双脉冲测试及晶体管失效机制等知识，可进一步提升实际设计实践中的判断能力。

2026-08-04 14:45 阅读量：208

型号	品牌	询价
CDZVT2R20B	ROHM Semiconductor
MC33074DR2G	onsemi
BD71847AMWV-E2	ROHM Semiconductor
TL431ACLPR	Texas Instruments
RB751G-40T2R	ROHM Semiconductor

型号

品牌

询价

ROHM Semiconductor

onsemi

ROHM Semiconductor

Texas Instruments

ROHM Semiconductor

型号	品牌	抢购
ESR03EZPJ151	ROHM Semiconductor
BU33JA2MNVX-CTL	ROHM Semiconductor
BP3621	ROHM Semiconductor
TPS63050YFFR	Texas Instruments
IPZ40N04S5L4R8ATMA1	Infineon Technologies
STM32F429IGT6	STMicroelectronics

型号

品牌

抢购

ROHM Semiconductor

ROHM Semiconductor

ROHM Semiconductor

Texas Instruments