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1.4nm节点？英特尔制造工艺路线路首次出现非整数节点
近日，在 IEEE 国际电子设备会议(IEDM)上，荷兰光刻机巨头 ASML 公布了一张合作伙伴英特尔的工艺路线图，路线图显示英特尔将在 2019 年到 2029 年未来十年的制造工艺扩展路线图，其中 2029 年将推出的是 1.4nm 节点，这是我们第一次看到非整数工艺节点。
随后英特尔官方澄清，这张路线图并非完全来自 Intel 官方，而是 ASML CEO Martin van den Brink 拿了此前 Intel 9 月份公布的一张制程工艺更新 PPT 修改而来，自行添加了原来没有的几个工艺名称，但并未说明，造成了误会。
Intel 表示，对于 7nm、5nm、3nm 等等这些新工艺肯定是在研究推进的，原始 PPT 也明确 2021 年开始，会每两年对制程工艺进行一次重大升级，而且每代工艺都有+、++两次优化更新。
但是更具体的新工艺技术节点和对应时间表，Intel 尚未公布，1.4nm 这样的另类更是完全无从谈起。
当然在另一方面，ASML 作为光刻机巨头，可以说是 Intel 工艺进步的源头之一，双方合作关系密切，肯定了解一些 Intel 的规划，但未来究竟如何发展，还是要等 Intel 官方公布的消息了。
Intel 还称，在摩尔定律精神的指引下，Intel 推进创新的决心始终坚定!
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