过去两年,AI算力需求以每年数倍的速度增长。单机架功率从早期的几十千瓦,正在向数百千瓦乃至更高迈进。英伟达最新的GB200 NVL72系统,单机架功率已达到120kW级别。而下一代Rubin Ultra平台的设计目标已经指向600kW以上,甚至兆瓦级机架。

但一个被忽视的事实是:算力越强,电源系统面临的压力越大。
传统数据中心供电架构中,12V或48V母线在千瓦级功率下,电流可达数百安培甚至更高。这意味着仅仅在线缆和连接器上的导通损耗,就足以让整个系统的效率下降几个百分点。效率损失1%,对于一个350kW级别的电源系统而言,就是3.5kW的纯浪费——这不仅是电费问题,更是散热设计和运营成本的连锁压力。
更关键的是,低压大电流路径的损耗并非线性增长。以48V架构为例,当机架功率达到600kW时,理论电流将超过12,500A。即使假设铜排总电阻仅为1毫欧,传输损耗也将高达156kW,占总功率的26%。这已经不是在“省电”,而是在“堵漏”。
问题的根源在哪里?
在一套完整的AC-DC或DC-DC电源链路中,功率器件承担着最关键的开关与转换任务。它的导通损耗和开关损耗,直接决定了系统的效率上限。
传统硅基MOSFET在高电压下存在一个物理极限:击穿电压与导通电阻之间存在正相关关系——要提高耐压,就必须增加漂移区厚度、降低掺杂浓度,而这直接导致导通电阻显著上升。这一矛盾在高压、高频场景下被进一步放大:开关损耗随频率上升,而为了维持效率被迫降低开关频率,又会导致变压器和电感体积增大。在寸土寸金的服务器机柜里,这几乎是不可接受的。
破局思路:从器件层面找回效率
第三代半导体碳化硅(SiC)与氮化镓(GaN),正是针对这类场景的破局关键。SiC材料具有宽禁带、高临界击穿场强和高热导率等优势,在650V及以上高压场景中,可以用更薄的漂移区实现更低的导通电阻,同时支持更高开关频率和更高工作结温;GaN HEMT则基于AlGaN/GaN异质结形成高迁移率二维电子气,具备极低的栅极电荷、输出电容和反向恢复电荷,特别适合600V至650V及中低压高频高效场景。二者结合,可在PFC、DC-DC、同步整流等环节显著降低导通损耗与开关损耗。
在服务器电源、通讯电源等能源电源应用中,SiC MOSFET与GaN HEMT的低导通损耗、低开关损耗和优异高频特性,能够帮助设计者在有限空间内实现更高的功率密度。

以安森德半导体的第三代半导体产品线为例,目前已有成熟产品落地:
SiC MOSFET 系列:
以 ASC360N65Q1H (N MOS) 为代表,采用Trench工艺,耐压达650V,内阻低至360mΩ。该器件具有高开启电压(抗干扰能力强)、开关速度快的特点。配合DFN5*6封装,散热性能好,应用稳定,非常适用于开关电源、高压DC-DC驱动以及快速开关场景,具备高功率密度、输出线性好和能效高等优势。
GaN MOSFET 系列:
以ASDM15GN65TE / ASDM23GN65P 为代表,耐压650V,内阻低至100mΩ。该系列具备高频高效、高耐压、耐高温、高可靠性的特点,能实现节能降耗、小体积、低重量和高功率密度。其应用领域覆盖氮化镓锂电池充电器、PD快充及大功率适配器,非常适合作为AI服务器电源系统的高密度辅助电源或高效供电模块。
AI算力的竞赛不会停步。从行业趋势来看,供电架构正在从传统的12V/48V母线向50V乃至800V高压直流演进,机架功率的每一次跃升,都在把电源设计推向新的边界。设计者需要更“聪明”的器件来跟上节奏。
如果你正在为高功率密度电源的效率和散热问题头疼,欢迎关注安森德半导体公众号,我们将为您提供更加优质的解决方案。

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